Влияние технологических параметров на размеры жидкой металлической ванны при плазменно-дуговой наплавке медных плит кристаллизаторов МНЛЗ

Кожемякин, В. Г.; Шаповалов, В. А.; Бурнашев, В. Р.; Ботвинко, Д. В.

Исследовано влияние технологических режимов на глубину проплавления поверхностного слоя модели медной плиты кристаллизатора МНЛЗ. В процессе экспериментов изменяли ток, скорость перемещения заготовки, частоту колебаний плазмотронов, амплитуду колебаний плазмотронов, расход и состав плазмообразующего газа, расстояние от среза сопла до изделия. Определены наименьшее значение тока плазменной дуги при наплавке с перемещением заготовки и колебательным движением плазмотрона; скорость наплавки, при которой образуется качественный наплавленный слой; состав и расход плазмообразующего газа; влияние длины плазменной дуги на глубину проплавления поверхностного слоя модели медной плиты кристаллизатора МНЛЗ. Показано, что плазменно-дуговая технология позволяет восстанавливать изношенный поверхностный слой заготовок. Технология плазменно-дугового рафинирования поверхности с применением легирующих и модифицирующих присадок позволяет вводить в поверхностный слой медной плиты кристаллизатора МНЛЗ более износостойкий материал. Приведены технологические режимы экспериментов и результаты металлографических исследований.


	Наукова періодика України		Сучасна електрометалургія