Аморфні SiCN-покриття було осаджено на кремнієві підкладки методом плазмохічічного осадження (PECVD) з використанням гексаметилдісилазану як основного прекурсора. Досліджено вплив температури осадження на структуру, хімічний склад і механічні властивості покриттів. Встановлено, що за температур до 400 °C мало місце осадження гідрогенізованих аморфних SiCN (a-SiCN:H)-покриттів, твердість яких не перевищує 23 ГПа. З подальшим підвищенням температури розподіл міцних зв'язків Si - C, Si - N і C - N в покриттях практично не змінюється, а кількість слабких водневих зв'язків C - H, Si - H і N - H зменшується. Як наслідок такого перерозподілу хімічних зв'язків при температурах 650 - 700 °C осаджуються a-SiCN-покриття з твердістю понад 32 ГПа. Відпал у вакуумі за 1 200 °C не впливає помітно на структуру, твердість і модуль пружності a-SiCN-покриттів.

  Повний текст PDF - 532.843 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"