Зазначено, що NbN і Nb-Si-N плівки осаджували на кремнієві пластини за допомогою методу магнетронного розпилення мішеней Nb і Si за різних потужностей розряду на мішені із Nb. Плівки досліджено за допомогою атомно-силового мікроскопа, дифракції рентгенівських променів, рентгенівської фотоелектронної спектроскопії, нано- і мікроіндентування. NbN плівки були наноструктуровані, тоді як Nb-Si-N плівки являли агрегацію <$E delta>-NbNx нанокристалітів, вкраплених в аморфну Si3N4 матрицю (nc-<$E delta>-NbNx/a-Si3N4). Відпал плівок у вакуумі показав, що їх інтенсивне окиснення відбувається при температурі вищій, ніж 600 <$E symbol Р>С. Для пояснення експериментальних результатів по Nb-Si-N плівках проведено моделювання NbN (001)/Si3N4 гетероструктури із перших принципів в межах молекулярної динаміки.

  Повний текст PDF - 1.531 Mb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"