Наукова періодика України | Оптоелектроніка та напівпровідникова техніка | ||
Карась Н. И. Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния / Н. И. Карась // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника. - 2013. - Вып. 48. - С. 136-139. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/ont_2013_48_15 Исследовано влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость (ФП) структур макропористого кремния (МПК). Показано, что с увеличением толщины оксидного покрытия от 3 до 15 нм отрицательная ФП уменьшается по абсолютной величине, а при толщине оксидного покрытия 30 нм наблюдается только положительная ФП. Объясняется это компенсацией положительным "встроенным" зарядом оксида отрицательного заряда "медленных" поверхностных уровней, расположенных на поверхности макропористого кремния. Цитованість авторів публікації: Бібліографічний опис для цитування: Карась Н. И. Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния / Н. И. Карась // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника. - 2013. - Вып. 48. - С. 136-139. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/ont_2013_48_15. Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського |