Досліджено вплив обробки в плазмі тліючого розряду <$Eroman H sub 2 sup +> на шари ZnO, які були нанесені на покриті плівками легованого фтором оксиду олова (FTO) скляні підкладки шляхом низькотемпературного осадження з водних розчинів, а саме, за допомогою методу імпульсного електрохімічного осадження і методу послідовної адсорбції і реакції іонних шарів (SILAR). Показано, що кристалічна структура, морфологія поверхні, хімічний склад і оптичні властивості після плазмової обробки зазнають деяких деструктивних змін через утворення кисневих вакансій VO і пов'язаних з воднем дефектів, а також внаслідок того, що <$Eroman H sub 2 sup +>-плазма тліючого розряду здатна травити ZnO шляхом відновлення оксиду цинку і випаровування з поверхні Zn. Проте в цілому, проведені дослідження продемонстрували досить добру стійкість шарів ZnO до радіаційного та хімічного впливів плазми за одержаної кожним зразком ZnO/FTO високої сумарної густини потоку <$Eroman H sub 2 sup +> приблизно <$E8~cdot~10 sup 18> см<^>-2.

  Повний текст PDF - 952.834 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"