Запропоновано метод розрахунку інтенсивності локального поля навколо нескінченно довгої наносмужки на поверхні зі збудженим поверхневим плазмоном. Розрахунок проводиться за допомогою методу функцій Гріна в межах концепції ефективної сприйнятливості, використовуючи наближення ближнього поля. Розглянуто метод аналітичного розрахунку ефективної сприйнятливості двовимірної наносмужки. Одержано розподіл локального поля навколо кремнієвої наносмужки з шириною та висотою 100 нм. Одержаний розподіл несиметричний і дуже неоднорідний.Запропоновано метод розрахунку інтенсивності локального поля навколо нескінченно довгої наносмужки на поверхні зі збудженим поверхневим плазмоном. Розрахунок проведено за допомогою методу функцій Гріна в межах концепції ефективної сприйнятливості з використанням наближення ближнього поля. Розглянуто метод аналітичного розрахунку ефективної сприйнятливості двовимірної наносмужки. Основною характеристикою запропонованого підходу є максимальне використання аналітичних розрахунків. Одержані результати універсальні, і тому їх можна використати для обчислення інтенсивністі локального поля навколо будь-якої низькорозмірної прямокутної наносмужки, з будь-яким співвідношенням сторін та будь-яким матеріалом наносмужки чи поверхні.