Наукова періодика України Технологія та конструювання в електронній апаратурі


Turtsevich A. S. 
Deposition of borophosphosilicate glass films using the TEOS–dimethylphosphite–trimethylborate system / A. S. Turtsevich, O. Y. Nalivaiko // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. - 2015. - № 1. - С. 49-58. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/TKEA_2015_1_9
Modernization of horizontal low pressure deposition system has been performed. The liquid source delivery system using the bubblers has been developed. The PSG and BPSG film deposition processes and film properties using TEOS - Dimethylphosphite - TEB system have been studied. It is shown that the use of dimethylphosphite allows varying the phosphorus concentration in the wide range. It is found that the optimal range of the total boron and phosphorus concentration ensuring the acceptable topology planarity and resistance to defect formation during storage is 8.7 ± 0.3 wt% when the phosphorus concentration is 3.0 - 3.8 wt%. It is found that at use of the TEOS - DMP - TEB system the depletion of the phosphorus concentration along reaction zone does not occur, and the total dopant concentration is practically constant. At the same time the deposition rate of BPSG films is 9.0 - 10.0 nm/min and the good film thickness uniformity are ensured. The as-deposited films have “mirror-like surface” that is proof of minimalsurface roughness. The BPSG films with optimal composition are characterized by the reduced reaction capability against atmospheric moisture.Проведено модернізацію горизонтального реактора зниженого тиску. Розроблено систему подачі рідкого реагенту з використанням барботерів. Досліджено процеси осадження плівок і властивості плівок фосфоросилікатного та борофосфоросилікатного скла з використанням системи ТЕОС - диметилфосфіт (ДМФ) - триметилборат (ТМБ). Показано, що використання диметилфосфіту дозволяє варіювати концентрацію фосфору в широкому діапазоні. Встановлено, що оптимальний діапазон сумарних концентрацій бору та фосфору, що забезпечує прийнятну планарність топологічного рельєфу та стійкість до дефектоутворення під час зберігання, складає 8,7 - 0,3 ваг.%, При цьому концентрація фосфору становить 3,0 - 3,8 ваг.%. Встановлено, що у разі використання системи ТЕОС - ДМФ - ТМБ не відбувається збіднення концентрації фосфору уздовж реакційної зони, а сумарна концентрація легуючих домішок залишається практично постійною. У той самий час забезпечуються швидкість осадження плівок борофосфоросилікатного скла 9,0 - 10,0 нм/хв і хороша однорідність товщини плівок. Свіжоосаджені плівки мають "дзеркальну поверхню", що підтверджує їх мінімальну шорсткість. Плівки борофосфоросилікатного скла оптимального складу характеризуються зниженою реакційною здатністю по відношенню до атмосферної вологи.Проведена модернизация горизонтального реактора пониженного давления. Разработана система подачи жидкого реагента с использованием барботеров. Исследованы процессы осаждения пленок и свойства пленок фосфоросиликатного и борофосфоросиликатного стекла с использованием системы ТЭОС - диметилфосфит - триметилборат.
  Повний текст PDF - 734.648 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:
  • Turtsevich A.
  • Nalivaiko O.

  • Бібліографічний опис для цитування:

    Turtsevich A. S. Deposition of borophosphosilicate glass films using the TEOS–dimethylphosphite–trimethylborate system / A. S. Turtsevich, O. Y. Nalivaiko // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. - 2015. - № 1. - С. 49-58. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/TKEA_2015_1_9.

      Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
     
    Відділ інформаційно-комунікаційних технологій
    Пам`ятка користувача

    Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського