| Наукова періодика України |
| Фізична інженерія поверхні |
Vozniy O. V. Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source / O. V. Vozniy, G. Y. Yeom, A. Yu. Kropotov // Фізична інженерія поверхні. - 2007. - Т. 5, № 1-2. - С. 28-33. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Phip_2007_5_1-2_4 Цитованість авторів публікації: Бібліографічний опис для цитування: Vozniy O. V. Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source / O. V. Vozniy, G. Y. Yeom, A. Yu. Kropotov // Фізична інженерія поверхні. - 2007. - Т. 5, № 1-2. - С. 28-33. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Phip_2007_5_1-2_4. Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця" |
|
|
Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського |
|||||
