Проведено исследование влияния отжига в диапазоне <$E300~-~1050~symbol Р roman C> на структуру и рентгенооптические свойства многослойных наноразмерных рентгеновских зеркал C/Si. Структурная модель, полученная в результате обработки данных малоугловой рентгеновской дифракции, позволила рассчитать отражающую способность многослойного рентгеновского зеркала C/Si в диапазоне длин волн вакуумного ультрафиолета при температурах отжига до <$E800~symbol Р roman C>. Полученные с использованием синхротронного источника оптические характеристики зеркала в точности соответствуют расчетным. На длине волны <$Elambda ~=~22,7> нм коэффициент отражения составил R = 22,5 % при спектральном разрешении <$EDELTA lambda ~=~0,9> нм. Выявлено, что при отжиге коэффициент отражения на фиксированной длине волны падает, что связано с изменением периода многослойного зеркала. При этом пиковый коэффициент отражения с увеличением температуры растет. Многослойные зеркала C/Si, которые используются при повышенных температурах до <$E800~symbol Р roman С> включительно, требуют предварительной термообработки.