Простийпошук |
Розширенийпошук |
Покажчики
|
Професійний пошук |
Рубрикатор НБУВ |
Розподілений пошук |
Бази даних
Наукова періодика України - результати пошуку
Книжкові видання та компакт-дискиЖурнали та продовжувані виданняАвтореферати дисертаційРеферативна база данихНаукова періодика УкраїниТематичний навігаторАвторитетний файл імен осіб
 |
Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер "Mozilla Firefox" |
|
|
Повнотекстовий пошук
| Знайдено в інших БД: | Реферативна база даних (1) |
Список видань за алфавітом назв: Авторський покажчик Покажчик назв публікацій  |
Пошуковий запит: (<.>AT=Галій Динаміка зміни стехіометрії поверхні$<.>) | |||
|
Загальна кількість знайдених документів : 1 |
|||
| 1. | 
Галій П. В. Динаміка зміни стехіометрії поверхні кристалів CsI під впливом концентрованих потоків енергії: роль теплових та електронних збуджень [Електронний ресурс] / П. В. Галій, О. Я. Тузяк, О. В. Цветкова, І. Р. Яровець // Фізика і хімія твердого тіла. - 2013. - Т. 14, № 3. - С. 519-526. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/PhKhTT_2013_14_3_12 Проведено дослідження динаміки зміни стехіометрії поверхні кристалів CsI і KCl під впливом електронного та опромінення неодимовим ІЧ-лазером. Встановлено, що за низьких температур опромінюваних поверхонь зміна стехіометрії поверхні CsI і KCl визначається переважно електронними механізмами розпилення галогену, й обидві поверхні збагачуються металічною компонентою. Якщо на поверхні кристалів досягаються температури, близькі до температур плавлення, зміна стехіометрії визначається швидкостями дифузії до поверхні та випаровування компонент, тоді поверхня CsI збагачується галогеном, а KCl - металом. Вказані процеси носять квазіперіодичний характер залежно від флюенса та дози опромінення. | ||
Попередній перегляд: 
Реферативна БД
 |
| Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів |
 Пам`ятка користувача |