Бази даних


Наукова періодика України - результати пошуку


Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"

Вид пошуку
Повнотекстовий пошук
 Знайдено в інших БД:Реферативна база даних (2)
Список видань за алфавітом назв:
A  B  C  D  E  F  G  H  I  J  L  M  N  O  P  R  S  T  U  V  W  
А  Б  В  Г  Ґ  Д  Е  Є  Ж  З  И  І  К  Л  М  Н  О  П  Р  С  Т  У  Ф  Х  Ц  Ч  Ш  Щ  Э  Ю  Я  

Авторський покажчик    Покажчик назв публікацій



Пошуковий запит: (<.>A=Dahlal Z$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 2
Представлено документи з 1 до 2
1.

Dahlal Z. 
Deep Impact of the n-c-Si Defect Density on Heterojunction with Intrinsic Thin Layer Solar Cells [Електронний ресурс] / Z. Dahlal, F. Hamdache, D. Rached, W. L. Rahal // Journal of nano- and electronic physics. - 2021. - Vol. 13, no. 6. - С. 06001-1-06001-4. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2021_13_6_3
У роботі оптимізовано сонячний елемент n-c-Si на основі гетеропереходу з внутрішнім тонким шаром (HIT): оксид індію і олова (ITO)/гідрогенізований p-легований аморфний кремній (p-a-Si:H)/гідрогенізований власний поліморфний кремній (i-pm-Si:H)/n-легований кристалічний кремній (n-c-Si)/алюміній (Al). За допомогою симулятора ємності сонячних елементів (SCAPS-1D) вивчено вплив густини дефектів в об'ємі (Nt) і на поверхні (Nss) активного шару сонячного елемента n-c-Si на характеристику густини струму від напруги (J-V) (напруга холостого ходу, густина струму короткого замикання, коефіцієнт заповнення та ефективність). Для обчислення значень Nss було взято середнє між густиною станів Gmg, розташованих у забороненій зоні (U-подібна модель), і загальною густиною станів Ntot (хвости Урбаха), яку було помножено на товщину дефектного шару. Показано, що для товщини дефектної поверхні <$E32~roman A back 45 up 35 symbol Р> між гідрогенізованим поліморфним кремнієм і кристалічним кремнієм (i-pm-Si:H/n-c-Si) густина станів Gmf, розташованих у забороненій зоні, і густина станів Ntot в хвості Урбаха мають дорівнювати відповідно <$E3,5~cdot~10 sup 17> см<^>-3 і <$E2,8~cdot~10 sup 17> см<^>-3 (використовуючи U-подібну модель). Зроблено висновок, що поверхню активного шару необхідно пасивувати так, щоб одержати Nss менше 10<^>11 см<^>-2. Тоді час життя неосновних носіїв в активному шарі (n-c-Si) має бути більше 1 мс. Дійсно, для Nss = 10<^>10 см<^>-2 та <$Etau~=~5> мс одержано ккд 22,08 %.
Попередній перегляд:   Завантажити - 462.812 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
2.

Dahlal Z. 
Comparative Study of the Influence of μc-Si:H, a-Si:H, pm-Si:H and μc-SiOx as a Passivation Layer on the Performance of HIT n-c-Si Solar Cells [Електронний ресурс] / Z. Dahlal, F. Hamdache, D. Rached, W. L. Rahal // Journal of nano- and electronic physics. - 2021. - Vol. 13, no. 6. - С. 06002-1-06002-4. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2021_13_6_4
Одним з найважливіших факторів, які обмежують продуктивність сонячних елементів c-Si на основі гетеропереходу з внутрішнім тонким шаром (HIT), є густина дефектів на поверхні кристалічного кремнію. Числове моделювання було використано для вибору найбільш ефективного матеріалу як пасивуючого шару в сонячному елементі HIT c-Si. Для дослідження було вибрано такі матеріали: гідрогенізований мікрокристалічний кремній <$Emu>c-Si:H(<$EEg sub {i- mu c-Si:H } ~=~1,40> eV), гідрогенізований аморфний кремній a-Si:H (<$EEg sub {i-a-Si:H } ~=~1,84> eV), гідрогенізований поліморфний кремній pm-Si:H (<$EEg sub {i-pm-Si:H } ~=~1,96> eV) і гідрогенізований мікрокристалічний оксид кремнію <$Emu c-{roman SiO} sub x : roman H (Eg sub {i- mu c {roman SiO} sub x } ~=~2,5> eV). Результати моделювання показують, що посилення електричного поля на випромінювачі з використанням <$Emu>c-Si:H та a-Si:H як пасивуючого шару призводить до збільшення ефективності перетворення енергії сонячного елемента HIT c-Si з 25,42 до 26,34 % Створення потенційного бар'єру для фотогенерованих дірок на переходах i-pm-Si:H/n-c-Si та <$Emu>c-SiOx/n-c-Si знижує ефективність з 23,87 до 3,10 %. Цей бар'єр перешкоджає проходженню фотогенерованих дірок до емітера, що призводить до збільшення швидкості рекомбінації електронно-діркових пар і, отже, до зниження енергетичної ефективності. З шириною забороненої зони 1,84 еВ гідрогенізований аморфний кремній a-Si:H є найбільш підходящим кандидатом для створення пасивуючого шару на поверхні кристалічного кремнію для цього типу сонячних елементів.
Попередній перегляд:   Завантажити - 363.076 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
 
Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів
Пам`ятка користувача

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського