Унікальною особливістю наночастинок з високопровідних матеріалів (плазмонні наночастинки) є той факт, що їх хвильову позицію локалізованого поверхневого плазмонного резонансу (ЛППР) можна регулювати, змінюючи форму, розмір, склад і оточуюче середовище відповідно до цілей застосування. У даному огляді наведено приклади основних механізмів регуляції ЛППР, доступних на даний час. Серед найбільш вживаних методів регуляції хвильової позиції ЛППР - використання різного типу матеріалів наночастинок - золота, срібла, міді, алюмінію та сплаву золото - срібло. Також наведено приклади зміни резонансної позиції поглинання шляхом використання наночастинок з різною формою та розмірністю. Розглянуто використання менш вживаних методів регуляції ЛППР, таких як контрольована регуляція відстані між частинками в одному і двох вимірах. Описано роботи, де хвильову позицію ЛППР регулюють за рахунок зміни оточуючого середовища: товщини підкладки, товщини та діелектричних параметрів шару на поверхні наночастинки. Також розглянуто приклади активного впливу на зміну хвильової позиції ЛППР шляхом прикладання електричного потенціалу та регуляцією плазмових мод.

• Лопатинський Андрій Миколайович (фізико-математичні науки)
• Чегель Володимир Іванович (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"