Розглянуто плазмонні властивості гібридних металодіелектричних нанорозмірних структур на основі тонких плівок Cu, захищених від окиснення за умов повітряної атмосфери діелектричним шаром HfO2 та/або графенозим шаром. Експеримент проведено за допомогою методу еліпсометрії та поляриметрії зі збудженням поверхневих плазмонів у таких структурах у Кречманновій геометрії за довжини хвилі зондового світла <$Elambda~=~625> нм. Для них виміряно кутові залежності еліпсометричних параметрів <$Epsi ( theta )> і <$EDELTA ( theta )>, а також коефіцієнта внутрішнього відбивання <$ER sub { roman IN } ( theta sub { roman IN } )>. Ці експериментальні дані порівняно з відповідними залежностями, розрахованими за матричним методом згідно з моделями багатошарової структури. Числові значення оптичних сталих пік шарів гетероструктури піддано варіюванню для досягнення збігу з мінімальною похибкою між експериментальними та теоретичними даними. Криві залежностей внутрішнього відбивання <$ER sub { roman IN } ( theta sub { roman IN } )> досліджених зразків мають характерну особливість у вигляді глибокого мінімуму за певного кута падіння p-поляризованого світла, що є однозначним доказом існування у них поверхневого плазмонного резонансу. За особливостями поведінки цих кривих з'ясовано можливість використання таких гетероструктур як плазмонних сенсорів. Для оцінки рівня ефективності такого типу сенсорів виконано теоретичні розрахунки коефіцієнта внутрішнього відбивання за варіювання показника заломлення середовища, яке контактує з верхньою поверхнею структури. Одержано криві відповідних залежностей, за нахилом яких запропоновано визначати чутливість сенсора. Типове значення цієї величини для досліджених гетероструктур становить 100 - 200/RIU (Refractive Index Unit) в околі n = 1,3 RIU.

• Макаренко Ольга Володимирівна (1977–) (медичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"