Angular ellipsometric measurements of thin Ag, Cu films covered by HfO2 protective layer were performed. The ellipsometric parameters <$Epsi> and <$EDELTA> were measured in <$Etheta~=~43~-~85 symbol Р> light incidence angle range, where <$Epsi> is the azimuth of restored linear polarization, <$EDELTA> is the phase shift between p- and s-components of reflected light. For comparison, thin Au film (traditional sensor for surface plasmon resonance (SPR)) was examined as well. The curve <$EDELTA ( theta )> for all the samples investigated falls down with increasing angle of light incidence, while <$Epsi ( theta )> changes relatively weakly. It has been ascertained that the increase in the thickness of HfO2 layer affects the tan(<$Epsi>) value, while tan(<$Epsi>) deviation is mainly determined by the type of metallic film. With the growth of HfO2 layer, the minimum position of tan(<$Epsi>) shifts to smaller angles. From these angular dependences, one could choose the appropriate SPR-compatible structure due to maximal deviation of tan(<$Epsi>). To optimize layer thickness for a high SPR-response, spectral measurements and additional calculations are required.

 Наукова періодика України 

---

Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)

• Макаренко Ольга Володимирівна (1977–) (медичні науки)
• Лисюк Віктор Олександрович (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"