Goncharov A. A. Effect of RF-magnetron sputtering parameters on the structure of hafnium diboride films = Вплив параметрів ВЧ-магнетронного розпилення на структуру плівок дибориду гафнію / A. A. Goncharov, A. N. Yunda, V. V. Buranich, I. V. Shelest, V. B. Loboda // Журн. нано- та електрон. фізики. - 2018. - 10, № 3. - С. 03002-1-03002-5. - Бібліогр.: 25 назв. - англ.Досліджено вплив енергетичного фактора на формування структури нанокристалічних плівок дибориду гафнію. Показано, що за магнетронного розпилення зміна густини енергії <$Eepsilon sub roman bi>, що постачається зростаючій плівці бомбардуючими іонами, за рахунок зміни потенціалу зміщення Us, та щільності іонного струму js, призводить до формування плівок дибориду гафнію різного структурного стану від нанокластерного до нанокристалічного із текстурою зростання нормаллю до площини (0,01) та розміром нанокристалітів від 2,3 до 20 нм відповідно. Індекс рубрикатора НБУВ: К663.6 + В371.21
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж100357 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|