A new method to prepare vanadium oxide with a high temperature coefficient of resistance (TCR) and low resistance for uncooled micro-bolometers has been proposed. Amorphous vanadium oxide films with V2O3 phase inclusions have been fabricated on silicon and silica substrates at the temperature <$E200~symbol Р roman C> by using the direct current reactive magnetron sputtering method in controlled Ar/O2 atmosphere. Additional oxygen ion implantation in the deposited films allows to synthesize vanadium oxide with crystalline inclusions of VO2 and V2O5 phases under the low temperature annealing. The following long low-temperature annealing provides formation of VOx (at <$Ex~symbol О~2>) film with the TCR close to <$E7,0~% "/" ~symbol Р roman C>.

 Наукова періодика України 

---

Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)

• Сабов Томаш Мар'янович (фізико-математичні науки)
• Оберемок Олександр Степанович (фізико-математичні науки)
• Дубіковський Олександр Володимирович (фізико-математичні науки)
• Романюк Борис Миколайович (фізико-математичні науки)
• Попов Всеволод Геннадійович (фізико-математичні науки)
• Попов Валентин Георгійович (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"