Zakhvalinskii V. S. Temperature influence on the properties of thin Si3N4 films / V. S. Zakhvalinskii, P. V. Abakumov, A. P. Kuzmenko, A. S. Chekadanov, E. A. Piljuk, V. G. Rodriguez, I. J. Goncharov, S. V. Taran // Журн. нано- та електрон. фізики. - 2015. - 7, № 4. - С. 04052-1-04052-2. - Бібліогр.: 6 назв. - англ.Applying Raman spectroscopy, small-angle x-ray scattering, and atomic force microscopy it were studied phase composition and surface morphology of nanoscale films Si3N4 (obtained by RF magnetron sputtering). Індекс рубрикатора НБУВ: В371.212 + В379.247
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж100357 Пошук видання у каталогах НБУВ Повний текст Наукова періодика України
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|