Аморфні SiCN-покриття було осаджено на кремнієві підкладки методом плазмохічічного осадження (PECVD) з використанням гексаметилдісилазану як основного прекурсора. Досліджено вплив температури осадження на структуру, хімічний склад і механічні властивості покриттів. Встановлено, що за температур до 400 °C мало місце осадження гідрогенізованих аморфних SiCN (a-SiCN:H)-покриттів, твердість яких не перевищує 23 ГПа. З подальшим підвищенням температури розподіл міцних зв'язків Si - C, Si - N і C - N в покриттях практично не змінюється, а кількість слабких водневих зв'язків C - H, Si - H і N - H зменшується. Як наслідок такого перерозподілу хімічних зв'язків при температурах 650 - 700 °C осаджуються a-SiCN-покриття з твердістю понад 32 ГПа. Відпал у вакуумі за 1 200 °C не впливає помітно на структуру, твердість і модуль пружності a-SiCN-покриттів.

 Наукова періодика України 

---

Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)

• Порада Олександр Карпович (технічні науки)
• Козак Андрій Олександрович (фізико-математичні науки)
• Іващенко Володимир Іванович (1956–) (фізико-математичні науки)
• Дуб Сергій Миколайович (технічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"