Книжкові видання та компакт-диски Журнали та продовжувані видання Автореферати дисертацій Реферативна база даних Наукова періодика України Тематичний навігатор Авторитетний файл імен осіб
|
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000577059<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 1
|
Bobyk M. Yu. Different electron-scattering mechanisms' contribution to the formation of the amplitude contrast of electron-microscopic images / M. Yu. Bobyk, V. P. Ivanitsky, M. M. Ryaboshchuk, O. Ya. Svatyuk // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології : зб. наук. пр.. - 2015. - 13, вип. 1. - С. 85-97. - Бібліогр.: 13 назв. - англ.Предложен новый метод экспериментального определения амплитуды контрастного значения электронно-микроскопических изображений для аморфных материалов. Получены математические соотношения для расчета вкладов различных механизмов рассеяния электронов на изучаемом объекте в контраст на основе соответствующих электронограмм. Для аморфных пленок As40Se60 найдены экспериментально доли вкладов упруго когерентно, упруго некогерентно и неупруго рассеянных электронов в контраст. Індекс рубрикатора НБУВ: В338.26 + В342.2
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж72631 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
|