Изложены основы физики и техники вакуумно-дуговых источников плазмы для осаждения функциональных покрытий. Систематизированы результаты исследований в области формирования потоков эрозионной плазмы, генерирующейся катодными пятнами дугового разряда в вакууме и газовой среде низкого давления. Рассмотрены способы зажигания и стабилизации разряда в технологических плазменных источниках. Приведены данные об эрозии катода, ее капельной, паровой и ионной составляющих, о зарядовом составе и энергетическом спектре ионного компонента, о его взаимодействии с газовой мишенью. Рассмотрены способы формирования диаграммы направленности плазменных потоков и механизмы транспортировки плазмы в прямо- и криволинейных магнитоэлектрических плазмоведущих каналах. Описаны наиболее распространенные фильтрующие системы для очистки плазмы от макрочастиц материала эродирующего катода.

• Білоус Віталій Арсентійович (1944–) (геологічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"