Досліджено вплив Pt на твердотільні реакції у нанорозмірних плівках Ni(30 нм)/Pt(2 нм; 6 нм)/Siеп. (50 нм)/Si(001) (де x = 2 нм, 6 нм). Шари Pt і Ni одержано магнетронним осадженням на шар Si товщиною 50 нм, епітаксіально вирощений на монокристалічній підкладці Si(001) за кімнатної температури. Швидкісний термічний відпал зразків проведено в атмосфері азоту в інтервалі температур 450 - 900 градусів за Цельсієм протягом 30 с. У осаджених плівках фазоутворення не спостережено. В процесі термічної обробки термічно активовані твердотільні реакції починаються з утворення проміжної силіцидної фази Ni2Si для x = 2 нм, але для x = 6 нм формування цієї збагаченої нікелем фази є утрудненим. Збільшення температури відпалу до 600 градусів за Цельсієм, незалежно від товщини проміжного шару Pt, призводить до формування фаз NiSi і PtSi та твердого розчину Ni1-xPtxSi. Для x = 6 нм спостережено двошарову гетероструктуру: ближче до поверхні формувалася складна полікристалічна фаза Ni1-xPtxSi, нижче за яку розташовувалася фаза NiSi. Після відпалу за температури 650 і 850 градусів за Цельсієм силіцид Ni1-xPtxSi розпадався на фази NiSi і PtSi. Концентраційні профілі, одержані за допомогою методу мас-спектрометрії вторинних нейтралей, продемонстрували збагачення поверхневих шарів кремнієм, що можна пояснити швидкою дифузією Si вздовж меж зерен.

Індекс рубрикатора НБУВ: Ж364.204 + В371.236 + В378.51

Рубрики:

Структура наноматеріалів

Вирощування монокристалів металів

Шифр НБУВ: Ж41115 Пошук видання у каталогах НБУВ 

---

Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)

• Сидоренко Сергій Іванович (1947–) (технічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"