Onoprienko A. A. Study on resistivity and microstructure of magnetron sputtered a-C:Si films / A. A. Onoprienko, I. B. Yanchuk // Functional Materials. - 2006. - 13, № 4. - С. 652-656. - Бібліогр.: 21 назв. - англ.Досліджено електроопір і мікроструктуру легованих кремнієм (від 5 до 38 ат. % Si) аморфних вуглецевих (a-C) плівок, нанесених за допомогою методу магнетронного розпилювання на постійному струмі, залежно від концентрації кремнію у плівках. Плівки одержано розпилюванням складної (графіт + монокристалічний кремній) мішені в аргоновій плазмі. Електроопір плівок виміряно паралельно та перпендикулярно поверхні підкладки. Структуру плівок вивчено із використанням методів електронографії та комбінаційного розсіювання світла. Легування кремнієм не вплинуло на електроопір <$E rho~| down 40 back 30 -> у всьому інтервалі концентрацій кремнію, але призвело до різкого підвищення <$E rho sub ||>. Проникнення атомів кремнію у структуру графітоподібних кластерів вуглецевих плівок призводить до її спотворювання і розупорядкування у площинах, паралельних поверхні підкладки, та, як наслідок, сприяє підвищенню <$E rho sub ||>. Індекс рубрикатора НБУВ: В372.6 + В377
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж41115 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|