Исследованы вольтамперные и импедансные характеристики структур ITO/NiPc/металлический электрод. Структуры сформированы методом термовакуумного испарения последовательным нанесением на стеклянные подложки с оптически прозрачным электродом ІТО плёнок органического полупроводника фталоцианина никеля (NiPc) и металлических электродов алюминия или индия. Структуры исследовались в атмосферах воздуха, насыщенного водяного пара и насыщенных водных растворах аммиака разных парциальных давлений. Проведен сравнительный анализ постоянных и переменных темновых токов структур. Установлены электропроводные характеристики исследованных структур в зависимости от свойств плёнки NiPc и интерфейса NiPc/металлический электрод под воздействием разных газовых сред. Оценены процессы релаксации в плёнке NiPc на основании моделирования эквивалентных схем структур в соответствии к импедансным исследованиям.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"