Krukovsky S. I. High-resistance low-doped GaAs and AlGaAs layers obtained by LPE / S. I. Krukovsky, D. M. Zayachuk, O. V. Rybak, I. O. Mryhin // Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics. - 2003. - 6, № 1. - С. 55-57. - Бібліогр.: 9 назв. - англ.Досліджено вплив одночасного легування галієвих розплавів Yb та Al на властивості епітаксійних плівок GaAs, вирощених за допомогою методу РФЕ. Показано, що під впливом легуючих домішок змінюються як морфологія, так і електрофізичні параметри плівок. Одержані результати пояснено гетеруючою дією ітербію по відношенню до кисню та кремнію у розчині-розплаві, а також зменшенням концентрації кремнію у плівках завдяки входженню алюмінію у підгратку галію. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.24
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|