Осинский В. И. Нанокарбидные процессы при МОС-эпитаксии III-нитридных структур / В. И. Осинский, Н. Н. Ляхова, И. В. Масол, В. П. Грунянская, П. В. Деминский, Н. О. Суховий, В. В. Стонис, М. С. Оначенко // Оптико-електрон. інформ.-енерг. технології. - 2012. - № 1. - С. 62-72. - Библиогр.: 15 назв. - рус.Рассмотрена возможность целенаправленного формирования оптоэлектронных приборов с использованием многообразия углеродных наноструктур. Впервые получена аномальная анизотропная электропроводность с полупроводниковым характером температурной зависимости поверхности накарбидизированного с-сапфира. Установлено активирующее влияние температурной обработки поверхности с-сапфира в потоке аммиака (T = 1050 градусов по Цельсию, t = 20 мин при давлении в реакторе порядка 20 - 50 мбар) для последующего образования в нанотекстурированном сапфире нанокарбидных структур в потоке триметил алюминия (T = 1000 градусов по Цельсию, газ-носитель азот, t = 1 мин). Індекс рубрикатора НБУВ: З843.3 + З861-03
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж23882 Пошук видання у каталогах НБУВ Повний текст Наукова періодика України
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|