Киселюк М. П. Відбивання тонких плівок GaSe/n-Si(100) та GaSe/n-Si(111) / М. П. Киселюк, О. І. Власенко, П. О. Генцарь, М. В. Вуйчик, М. С. Заяць, І. В. Кругленко, О. С. Литвин, Ц. А. Криськов // Фізика і хімія твердого тіла. - 2010. - 11, № 3. - С. 604-609. - Бібліогр.: 8 назв. - укp.Проведено морфологічні та оптичні (еліпсометрія, спектри відбивання в діапазоні 400 - 750 нм та спектри відбивання в діапазоні 1,4 - 25 мкм) дослідження тонких плівок GaSe товщиною 15 - 60 нм на підкладках із монокристалічного кремнію n-Si(100) та n-Si(111), вирощених за методом термічного напилення. Показано зміну фізичних параметрів тонких плівок та наближення кристалічної і енергетичної зонної структури тонких плівок до монокристалів. Для плівок товщиною 60 нм максимум смуги відбивання пояснено непрямими оптичними переходами (оптична ширина забороненої зони E0 плівки GaSe), підсиленими екситонною взаємодією. В оптичних дослідженнях виявлено прояв квантових ефектів в приповерхневій області тонких плівок. Показано, що на початковому етапі росту має місце острівковий (тривимірний) ріст плівок GaSe на підкладках n-Si(100) та n-Si(111). Індекс рубрикатора НБУВ: В379.226 + В379.24
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26618 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|