Афанас'єва Т. В. Адсорбція кисню на поверхні Ge/Si(001) / Т. В. Афанас'єва, О. А. Гринчук, І. П. Коваль, М. Г. Находкін // Вісн. Київ. нац. ун-ту. Сер. фіз.-мат. науки. - 2007. - № 2. - С. 207-210. - Бібліогр.: 8 назв. - укp.Найбільш імовірні місця адсорбції одного, двох і трьох атомів кисню досліджено за допомогою розрахунків із перших принципів. Установлено, що найбільш енергетично вигідним є формування <$E roman Si sup 2+> координованого оксиду таким чином, щоб утворювались зв'язки Si - O - Si, що виникають між атомом поверхневого димеру й атомами другого шару. Встановлено, що кисень може спричиняти перемішування Si і Ge, що в свою чергу може призвести до зміни бар'єрів дифузії та хемосорбції. Взаємодія кисню з поверхнею не є виключно локальною. Індекс рубрикатора НБУВ: Г583.2
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж28079/фіз.-мат. Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|