Сукач Г. О. Вплив поверхневих рекомбінаційних процесів вищих порядків на товщину прошарку, відповідального за формування фотоефектів у напівпровідникових структурах / Г. О. Сукач, С. М. Білоусов // Укр. фіз. журн. - 2002. - 47, № 1. - С. 80-84. - Бібліогр.: 6 назв. - укp.Проаналізовано вплив об'ємних і поверхневих параметрів напівпровідника на інформаційну глибину формування фотоефектів Zi. Показано, що зі збільшенням параметрів поверхневої рекомбінації S, R і Cs спостерігається зростання інформаційної глибини фотоефектів Zi. Зі збільшенням порядку поверхневої рекомбінації (за участю одного, двох або трьох вільних носіїв заряду) вплив коефіцієнта поглинання k на величину Zi проявляється в ширшому діапазоні його зміни (залежність Zi(k) пізніше виходить на насичення). Причому граничне значення Zi за <$E k~symbol О~inf > не залежить від величин S, R і Cs. Установлено факт немонотонності зміни абсолютної величини Zi з підвищенням порядку безвипромінювальної поверхневої рекомбінації. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.4
Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|