РЕФЕРАТИВНА БАЗА ДАНИХ "УКРАЇНІКА НАУКОВА"
Abstract database «Ukrainica Scientific»


Бази даних


Реферативна база даних - результати пошуку


Вид пошуку
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000116094<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 1

Макара В. А. 
Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур / В. А. Макара, В. А. Одарич, Т. Ю. Кепич, Т. Д. Преображенская, О. В. Руденко // Технология и конструирование в электрон. аппаратуре. - 2009. - № 3. - С. 40-46. - Библиогр.: 12 назв. - рус.

Проведен конструкторско-технологический анализ схемы измерения эллипсометрических параметров, расчета показателя преломления и толщины пленки, разработана блок-схема и создан макет прибора для контроля степени однородности пленочных структур в процессе их изготовления. Разработан пакет автоматизированных программ вычисления показателя преломления и толщины пленок по измеренным эллипсометрическим параметрам, основаных на итерационном методе решения уравнения эллипсометрии. Проведена апробация прибора на примере определения показателя преломления и толщины пленок CdTe и пленок <$Eroman HfO sub 2>, которая показала возможность контроля однородности пленок по площади и толщине.

Проведено конструкторсько-технологічний аналіз схеми вимірювання еліпсометричних параметрів, розрахунку показника заломлення і товщини плівки, розроблено блок-схему і створено макет приладу для контролю однорідності плівкових структур в процесі їх виготовлення. Розроблено пакет автоматизованих програм обчислення показника заломлення і товщини плівок за зміряними еліпсометричними параметрами, заснованими на ітераційному методі вирішення рівняння еліпсометрії. Проведено апробацію приладу на прикладі визначення показника заломлення і товщини плівок CdTe і плівок <$Eroman HfO sub 2>, яка показала можливість контролю однорідності плівок за площею та товщиною.

The designer-technological analysis of ellipsometric parameters measuring and calculation of the film refraction index and thickness scheme is conducted in this article. The flow-chart is developed and the model of apparatus for the film refraction index and thickness measuring and control of the film structures technology making is created. Package of automated programs of the film refraction index and thicknes calculating on the measured ellipsometric parameters, based on the iteration method of decision of ellipsometry equation was developed. The approbation of device, which showed the checking feature of films homogeneity both on an area and on a thickness on the example of determination of CdTe and <$Eroman HfO sub 2> films refraction index and thickness is conducted.


Ключ. слова: эллипсометрия, методы измерения параметров пленок, контроль однородности
Індекс рубрикатора НБУВ: З843.395-06

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж14479 Пошук видання у каталогах НБУВ 
Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)
  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
 
Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського
Відділ наукового формування національних реферативних ресурсів
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського