Для формирования защитного покрытия AlN, стойкого к воздействию ударных нагрузок, пригодны методы магнетронного и диодного распыления, а также распыления ионным пучком. В зависимости от условий проведения процесса получается различное содержание рентгеноаморфной и кристаллической фаз в объеме наноструктурированных покрытий и их волокнистое строение. Многослойные защитные покрытия получали последовательным нанесением на поверхности устройств слоев аморфного и кристаллического АlN с внутренним волокнистым строением слоя.

Methods of magnetron and diode sputtering and also ion beam sputtering are used for the formation temperature strengthening coatings. Changing deposition parameters of the given methods makes it possible to receive various concentration of the crystalline and X-ray amorphous phases and filamentary construction of the coatings. The multi-layer coatings were formed on the surface of the thermostamp consisted X-ray amorphous and crystalline АlN with the filamentary construction of the layers.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"