Проанализировано влияние концентрации водорода в магнетронной камере на гидрирование кремниевой аморфной пленки. Приведены численный расчёт системы извлечения и формирования ионного пучка в плазменном источнике ионов, а также расчёт теплового режима помещения с электрической кабельной системой. Определено удельное электрическое сопротивление графита при высоких температурах с использованием атомно-абсорбционного комплекса. Освещена эволюция электронного потока при импульсном способе возбуждения магнетронной пушки с холодным вторично-эмульсионным катодом. Представлены результаты исследований энергетических спектров вторичной ионной эмиссии металлов.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"