Шепель Л. Г. Метод повышения эффективности р - n-GaAs:Si структур для мощных инфракрасных излучателей / Л. Г. Шепель // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника. - 1998. - № 33. - С. 212-215. - Библиогр.: 8 назв. - рус.
На основе статистического анализа выходных характеристик промышленно выпускаемых p - n-GaAs:Si структур для ИК излучателей изучено влияние различных технологических факторов на величину мощности излучения. Показано, что предшествующая эпитаксии градиентная термообработка подложек приводит к существенному (10 - 40 %) повышению процента выхода годных структур в заданном интервале мощности излучения (P > 4 мВт при I = 100 мА).
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"