Indutnyi I. Z. Relaxation of photodarkening in SiO - As2(S,Se)3 composite layers = Релаксація фотопотемніння у композитних шарах SiO - As2(S,Se)3 / I. Z. Indutnyi, P. E. Shepeliavyi, V. I. Indutnyi // Фізика напівпровідників, квант. електроніка та оптоелектроніка. - 1999. - 2, № 2. - С. 59-62. - Библиогр.: 11 назв. - англ.В роботі досліджується реверсивний фотостимульований зсув краю поглинання (фотопотемніння), DELTA Eg, наночастинок As2S(Se)3 в матриці SiO. Спостерігалось значне збільшення DELTA Eg (до чотирикратного) при зменшенні розмірів часток халькогеніду в композитних SiO - As2S(Se)3 шарах порівняно з суцільними халькогенідними плівками. Одержано експоненційну залежність DELTA Eg від часу зберігання при різних температурах. Енергія активації структурного переходу наночасток As2S3 від метастабільного, фотозбудженого до основного, відпаленого стану складає 0,78 +- 0,06 еВ. Ефект пояснюється просторовим обмеженням дифузійного пробігу фотозбуджених носіїв та впливом розміру наночасток халькогеніду на структурну релаксацію в масштабі середнього порядку. Ключ. слова: photodarkening, chalcogenide glasses, nanoparticles, SiO-As_2S_3, SiO-As_2Se_3 Індекс рубрикатора НБУВ: В379.222
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|