Розглянуто один з головних аспектів LP-MOCVD (хімічне осадження з парової фази при низькому тиску) - кінетика росту тонких плівок. Термічний розклад вихідних речовин вивчено з допомогою інфрачервоної Фур'є-спектроскопії газової фази. Досліджено протікання паралельних реакцій в однорідній газовій або неоднорідній газово-твердій фазі, які складаються з ряду послідовних стадій. Полікристалічні тонкі плівки TiO₂ отримано за відсутності кисню з використанням Ti(OPr-i)₄) як вихідної речовини. Аморфні чорні (забруднені вуглецем) та гладкі плівки Al₂O₃ одержано в присутності кисню з Et₂Alacac, а полікристалічні плівки Pt (не забруднені вуглецем) - з Pt(acac)₂. Моделі добре передбачають швидкості осадження, відносячи до лімітуючої стадії енергію активації 126 кДж/моль для росту тонких плівок TiO₂, 97 кДж/моль - для плівок Al₂O₃ і коефіцієнт дифузії 1062 см²/хв - для росту тонких плівок Pt.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"