На підставі аналізу вітчизняних і зарубіжних літературних даних узагальнено уявлення про механізми процесів, які відбуваються на катоді під час вакуумно-дугового розряду в установках іонно-плазмового напилення. Сформульовано уявлення про фізико-хімічні процеси, відповідальні за формування покриттів з нітриду титану за різних умов. Описано залежності властивостей покриттів TiN від умов напилення та показано шляхи подальшого вдосконалення їх експлуатаційних характеристик. Наведено стислу характеристику стану структурних досліджень покриттів TiN.

• Ткачук Анатолій Анатолійович (технічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"