Электрофизическая установка с высокоградиентным магнитным полем для исследования свойств плазмы отражательного разряда

Ковтун, Ю. В.; Озеров, А. Н.; Скибенко, Е. И.; Юферов, В. Б.


	Наукова періодика України		Вісник Національного технічного університету "ХПІ"

Ковтун Ю. В.
Электрофизическая установка с высокоградиентным магнитным полем для исследования свойств плазмы отражательного разряда / Ю. В. Ковтун, А. Н. Озеров, Е. И. Скибенко, В. Б. Юферов // Вісник Національного технічного університету "ХПІ". Серія : Техніка та електрофізика високих напруг. - 2014. - № 50. - С. 98-109. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/vcpitevn_2014_50_17

Повний текст PDF - 394.987 Kb

Зміст випуску Google Scholar

Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:

Бібліографічний опис для цитування:

Ковтун Ю. В. Электрофизическая установка с высокоградиентным магнитным полем для исследования свойств плазмы отражательного разряда / Ю. В. Ковтун, А. Н. Озеров, Е. И. Скибенко, В. Б. Юферов // Вісник Національного технічного університету "ХПІ". Серія : Техніка та електрофізика високих напруг. - 2014. - № 50. - С. 98-109. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/vcpitevn_2014_50_17.

Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"

Відділ інформаційно-комунікаційних технологій

Пам`ятка користувача