Наукова періодика України Вісник Національного технічного університету "ХПІ"

Sotnikov A. 
Use of plasma technologies for the protection of radioelectronic means from the influence of electromagnetic radiation / A. Sotnikov, N. Yasechko // Вісник Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут". Серія : Нові рішення в сучасних технологіях. - 2017. - № 53. - С. 182-187. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/vcpinrct_2017_53_27
  Повний текст PDF - 408.73 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:
  • Sotnikov A.
  • Yasechko N.

    • Бібліографічний опис для цитування:

    Sotnikov A. Use of plasma technologies for the protection of radioelectronic means from the influence of electromagnetic radiation / A. Sotnikov, N. Yasechko // Вісник Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут". Серія : Нові рішення в сучасних технологіях. - 2017. - № 53. - С. 182-187. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/vcpinrct_2017_53_27.
      Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
     
    Відділ інформаційно-комунікаційних технологій
    Пам`ятка користувача

    Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського