Исследование распределения потенциалов на поверхности грунта у въездов (входов) и углов заземляющего контура подстанции

Нижевский, И. В.; Нижевский, В. И.; Крупенко, А. А.


	Наукова періодика України		Вісник Національного технічного університету "ХПІ"

Нижевский И. В.
Исследование распределения потенциалов на поверхности грунта у въездов (входов) и углов заземляющего контура подстанции / И. В. Нижевский, В. И. Нижевский, А. А. Крупенко // Вісник Національного технічного університету "ХПІ". Сер. : Енергетика: надійність та енергоефективність. - 2013. - № 59. - С. 112-116. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/vcpien_2013_59_17

Повний текст PDF - 209.189 Kb

Зміст випуску Google Scholar

Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:

Нижевский И.

Нижевский В.

Крупенко А.

Бібліографічний опис для цитування:

Нижевский И. В. Исследование распределения потенциалов на поверхности грунта у въездов (входов) и углов заземляющего контура подстанции / И. В. Нижевский, В. И. Нижевский, А. А. Крупенко // Вісник Національного технічного університету "ХПІ". Сер. : Енергетика: надійність та енергоефективність. - 2013. - № 59. - С. 112-116. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/vcpien_2013_59_17.

Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"

Відділ інформаційно-комунікаційних технологій

Пам`ятка користувача