Приведено основні принципи створення на базі вакуумного універсального поста ВУП-5(М) та подальшого використання плазмохімічного устаткування для осадження тонкоплівкових, у тому числі наношарових, матеріалів із парів зазвичай рідких прекурсорів. Метод можна класифікувати як осадження в газовому середовищі, активоване радіочастотною плазмою Е-типу в системах з безперервним потоком (метод відкритої труби). Устаткування універсальна до вибору прекурсору та має достатній набір технологічних параметрів, що надає можливість осаджувати широкий спектр покриттів з контрольованою товщиною від 1 до 2000 нм. Плазмохімічне устаткування вигідно доповнює набір технічних можливостей ВУП-5(М) і розширює його експлуатаційні характеристики без суттєвого втручання в конструкцію.

  Повний текст PDF - 476.077 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"