Формування фотонних наноструктур за допомогою інтерференційної літографії та осадження у вакуумі під ковзним кутом

Індутний, І. З.; Минько, В. І.; Шепелявий, П. Є.; Сопінський, М. В.; Ткач, В. М.; Данько, В. А.

Досліджено процес формування фотонних структур на поверхні мікропрофільованих кремнієвих підкладок. Формування рельєфної структури на кремнієвій пластині у вигляді матриці виступів субмікронних розмірів здійснювали за допомогою інтерференційної літографії з використанням вакуумних халькогенідних фоторезистів та селективного рідинного травлення. Для вирощування матриці SiOx-колон субмікронних розмірів на виступах мікропрофільованої підкладки використовувалось термічне осадження монооксиду кремнію у вакуумі під ковзним кутом. Геометричні параметри одержаних структур вивчено за допомогою високороздільного електронного та атомно-силового мікроскопів. Для характеризації одержаних структур проведено дослідження їх дифракційних та поляризаційних характеристик. Одержані кутові залежності дифракційної ефективності та ефективності конверсії поляризації демонструють анізотропні оптичні властивості двовимірних матриць SiOx-колон, що свідчить про можливість застосування таких структур як тонкоплівкових оптичних елементів.


	Наукова періодика України		Оптоелектроніка та напівпровідникова техніка