Наукова періодика України | Хімія, фізика та технологія поверхні | ||
Havryliuk O. O. Theoretical evaluation of the temperature field distribution in the silicon periodic nanostructures during thermal annealing / O. O. Havryliuk, О. Yu. Semchuk // Хімія, фізика та технологія поверхні. - 2017. - Т. 8, № 1. - С. 3-9. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/khphtp_2017_8_1_3 Проведено математичне моделювання розподілу температури в кремнієвих періодичних структурах. Показано розподіл температурних профілів у різні проміжки часу. Встановлено час повного нагріву структури. Показано, що у процесі термічного відпалу швидше нагрівається проміжок між мікронитками. Цитованість авторів публікації: Бібліографічний опис для цитування: Havryliuk O. O. Theoretical evaluation of the temperature field distribution in the silicon periodic nanostructures during thermal annealing / O. O. Havryliuk, О. Yu. Semchuk // Хімія, фізика та технологія поверхні. - 2017. - Т. 8, № 1. - С. 3-9. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/khphtp_2017_8_1_3.Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського |