Наукова періодика України Хімія, фізика та технологія поверхні

Havryliuk O. O. 
Theoretical evaluation of the temperature field distribution in the silicon periodic nanostructures during thermal annealing / O. O. Havryliuk, О. Yu. Semchuk // Хімія, фізика та технологія поверхні. - 2017. - Т. 8, № 1. - С. 3-9. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/khphtp_2017_8_1_3
Проведено математичне моделювання розподілу температури в кремнієвих періодичних структурах. Показано розподіл температурних профілів у різні проміжки часу. Встановлено час повного нагріву структури. Показано, що у процесі термічного відпалу швидше нагрівається проміжок між мікронитками.
  Повний текст PDF - 415.053 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:
  • Havryliuk O.
  • Semchuk О.

    • Бібліографічний опис для цитування:

    Havryliuk O. O. Theoretical evaluation of the temperature field distribution in the silicon periodic nanostructures during thermal annealing / O. O. Havryliuk, О. Yu. Semchuk // Хімія, фізика та технологія поверхні. - 2017. - Т. 8, № 1. - С. 3-9. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/khphtp_2017_8_1_3.
    Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
    (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)
  • Гаврилюк Олександр Олександрович (1989–) (фізико-математичні науки)
    •   Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
     
    Відділ інформаційно-комунікаційних технологій
    Пам`ятка користувача

    Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського