Наукова періодика України Хімія, фізика та технологія поверхні

Gavrylyuk O. O. 
Theoretical study on laser annealing of non-stoichiometric SiOX films / O. O. Gavrylyuk // Хімія, фізика та технологія поверхні. - 2014. - Т. 5, № 4. - С. 461-466. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/khphtp_2014_5_4_12
Проведено математичне моделювання розподілу температури у плівці SiOx. Показано, що доцільно використовувати лазер за відпалу плівок SiOx, причому відпал декількома імпульсами є ефективнішим за одноімпульсний відпал. Максимальна температура, після завершення лазерного імпульсу, в центрі дії лазерного променя не залежить від відстані між лазерними променями за одночасного відпалу декількома лазерними променями.
  Повний текст PDF - 566.389 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:
  • Gavrylyuk O.

    • Бібліографічний опис для цитування:

    Gavrylyuk O. O. Theoretical study on laser annealing of non-stoichiometric SiOX films / O. O. Gavrylyuk // Хімія, фізика та технологія поверхні. - 2014. - Т. 5, № 4. - С. 461-466. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/khphtp_2014_5_4_12.
      Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
     
    Відділ інформаційно-комунікаційних технологій
    Пам`ятка користувача

    Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського