Наукова періодика України | Хімія, фізика та технологія поверхні | ||
Gavrylyuk O. O. Theoretical study on laser annealing of non-stoichiometric SiOX films / O. O. Gavrylyuk // Хімія, фізика та технологія поверхні. - 2014. - Т. 5, № 4. - С. 461-466. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/khphtp_2014_5_4_12 Проведено математичне моделювання розподілу температури у плівці SiO Цитованість авторів публікації: Бібліографічний опис для цитування: Gavrylyuk O. O. Theoretical study on laser annealing of non-stoichiometric SiOX films / O. O. Gavrylyuk // Хімія, фізика та технологія поверхні. - 2014. - Т. 5, № 4. - С. 461-466. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/khphtp_2014_5_4_12. Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського |