Вивчено вплив легування фтором на властивості тонких плівок ZnO. Нелеговані і леговані плівки осаджували за допомогою методу спрей-піролізу на нагріті скляні підкладки за <$E380~symbol Р roman C> з різними концентраціями фтору (0 - 15 ат. %). Рентгенівські дифрактограми показують полікристалічну природу плівок з переважною орієнтацією вздовж осі c. Ніякі інші кластери та домішкові фази не спостерігалися за легування фтором. Розмір кристалітів осаджених тонких плівок розраховувався за допомогою формули Дебая - Шеррера і знаходився в діапазоні від 13,7 до 37,3 нм. Оптичне пропускання тонких плівок ZnO, легованих фтором, зменшується до 79 % у порівнянні з нелегованою тонкою плівкою ZnO у видимій області. Встановлено, що ширина забороненої зони зменшується в діапазоні 3,38 - 3,26 еВ у разі легування фтором і збільшується для більш високої концентрації фтору з 7 - 15 ат. %. Енергія Урбаха (розупорядкування) зменшується із 120 до 90 меВ, що надає змогу реалізувати кращу організацію плівки ZnO, тобто шари стають однорідними і добре кристалізуються. Чотириточкові методи вимірювання електропровідності показують, що усі зразки мають n-тип, а найкраще значення електропровідності <$E9,24~cdot~10 sup -5> (<$EOMEGA~cdot> см)<^>-1 одержано за концентрації фтору 5 ат. %. Збільшення електропровідності можна пояснити збільшенням концентрації носіїв у плівках. FZO може бути застосований в різних електронних і оптоелектронних додатках завдяки великій забороненій зоні, високій прозорості і гарній електропровідності.

  Повний текст PDF - 626.163 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"