Temperature Influence on the Properties of Thin Si3N4 Films

Zakhvalinskii, V. S.; Abakumov, P. A.; Kuzmenko, A. P.; Piljuk, E. A.; Rodrigues, V. G.; Goncharov, I. J.; Taran, S. V.


	Наукова періодика України		Journal of Nano- and Electronic Physics

Zakhvalinskii V. S.
Temperature Influence on the Properties of Thin Si3N4 Films / V. S. Zakhvalinskii, P. A. Abakumov, A. P. Kuzmenko, E. A. Piljuk, V. G. Rodrigues, I. J. Goncharov, S. V. Taran // Журнал нано- та електронної фізики. - 2015. - Т. 7, № 4. - С. 04052-1-04052-2. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2015_7_4_54

Applying Raman spectroscopy, small-angle x-ray scattering, and atomic force microscopy it were studied phase composition and surface morphology of nanoscale films Si₃N₄ (obtained by RF magnetron sputtering).

Повний текст PDF - 248.747 Kb

Зміст випуску Google Scholar

Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:

Бібліографічний опис для цитування:

Zakhvalinskii V. S. Temperature Influence on the Properties of Thin Si3N4 Films / V. S. Zakhvalinskii, P. A. Abakumov, A. P. Kuzmenko, E. A. Piljuk, V. G. Rodrigues, I. J. Goncharov, S. V. Taran // Журнал нано- та електронної фізики. - 2015. - Т. 7, № 4. - С. 04052-1-04052-2. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2015_7_4_54.

Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"

Відділ інформаційно-комунікаційних технологій

Пам`ятка користувача