Рассмотрены вопросы структурной инженерии покрытий системы Cr -N, полученных путем вакуумно-дугового испарения катода Cr в азотной атмосфере. В качестве изменяемых физико-технологических параметров использовались: давление азотной атмосферы (3,5...48) x 10<^>-4 Торр и отрицательный потенциал смещения, подаваемый на подложку в постоянном (Ub = 120 В) и импульсном (Uip = 1200 В) режимах. Увеличение давления без импульсного воздействия позволяет переходить от Cr + Cr2N фаз к текстурированным кристаллитам CrN фазы с осью [111]. Переход от металлической фазы к нитридной сопровождается уменьшением среднего размера кристаллитов. Дополнительная подача импульсного потенциала позволяет интенсифицировать процесс образования нитридов и стимулирует при высоких давлениях формирование радиационно-стойкой тестуры с осью [110].

  Повний текст PDF - 494.012 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"