Для оценки вероятности образования отрицательных ионов водорода в источнике отрицательных ионов с комбинированным методом получения отрицательных ионов произведены расчеты по уравнению Рассера для определения вероятности генерации отрицательных ионов водорода в поверхностно плазменном методе для различных значений работы выхода поверхности. Подсчеты, в хорошем соответствии с существующей теорией о принципе осуществления поверхностно-плазменного метода (ППМ), показали экспоненциальную зависимость вероятности образования отрицательных ионов при уменьшении работы выхода поверхности. Проведена оценка необходимых для использования в выражении Рассера параметров с учетом допустимо возможных в источнике отрицательных ионов, разрабатываемом в институте прикладной физики ИПФ НАН Украины г. Сумы. В зависимости от выбора конструктивных особенностей источника, проведены подсчеты вероятности образования отрицательных ионов для двух вариантов реализации ППМ.

  Повний текст PDF - 1.062 Mb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"