Приведены результаты исследований по формированию проводящей пленки в разрядном промежутке пускового инжектора в процессе работы вакуумно-дугового источника плазмы. Пленка осаждалась на торцевую поверхность трубки из керамики, применяемой для заполнения разрядного промежутка пусковых инжекторов. Эксперименты выполнялись в условиях реального технологического процесса нанесения защитно-декоративных покрытий в источниках плазмы с магнитным удержанием катодного пятна и катодами из хрома и титана. Установлено влияние материала катода и условий осаждения покрытий на структуру и свойства пленок, получаемых на керамике состава Al2O3 - SiO2 - BaO2. Определена скорость роста пленок, которая варьируется в диапазоне 1,1 - 3,3 нм/с.

  Повний текст PDF - 6.272 Mb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"