Методами рентгенівського дифракційного аналізу досліджено мікроструктуру прошарків міді, що отримані електроосадженням міді в стаціонарному, реверсному імпульсному та стохастичному режимах на мідні підкладки. Встановлено суттєвий вплив форми струму на текстуру осаджених прошарків міді. Встановлено, що більш просторово однорідну структуру має осад, що отриманий у реверсному імпульсному режимі електроосадження. За постійного струму електроосадження формуються кристали з більш дефектною структурою. За допомогою аналізу уширення дифракційних ліній визначено розміри областей когерентного розсіювання в прошарках, що отримані за різних режимів струму. Також встановлено, що після електролітичного осадження міді розмір зерен зменшується, у порівнянні з розмірами зерен у полікристалічній мідній підкладці.

  Повний текст PDF - 491.065 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"