Проаналізовано основні фотобіологічні методи впливу оптичного випромінювання ультрафіолетового діапазону хвиль (250 - 400 нм), які використовуються для опромінення ураженого шкірного покриву людини, виявлено значне непропорційне розміщення джерел світла, що призводить до нерівномірного формування світлового потоку на біологічному об'єкті і знижує ефективність світлотерапії. Розроблена та запропонована методика розрахунку для створення рівномірного розподілу освітленості на поверхні опромінення та наведено рекомендації щодо отримання оптимального світлового поля оптико-електронної системи пристрою для світлотерапії. Наводяться відомості про нові сучасні напівпровідникові джерела ультрафіолетового випромінювання (250 - 350 нм). На відміну від ртутних ламп розглянуті світлодіодні елементи забезпечують можливість побудови компактних комп'ютерних регульованих світлотерапевтичних пристроїв для застосування в фотомедичних технологіях.

  Повний текст PDF - 439.028 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"