Проведено дослідження кінетики фотолюмінесценції пресованих композитних зразків на основі нанокремнію в матриці аерогелю кремнезему. Проаналізовано еволюцію релаксаційних процесів під час витримки зразків за атмосферних умов, запропоновано можливі механізми, що пояснюють зміни в рекомбінаційних процесах під час окиснення зразків.Проведено дослідження кінетики фотолюмінесценції пресованих композитних зразків на основі нанокремнію в матриці аерогелю кремнезему nc-Si/arSiOx. Проведено розрахунок характерних часів згасання ФЛ і дисперсійного фоктору для свіжовиготовлених зразків та після зберігання за атмосферних умов. Показано, що еволюція кінетики ФЛ у зразках nc-Si/arSiOx зумовлюється формуванням інтерфейсних пасткових станів на межі нанокристаліт-оксидна матриця.

  Повний текст PDF - 281.218 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"